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方今处所

2020-03-13 11:12

  射频等离子体蚀刻机Quorum K1050X能够用于行使反响气体(比如CF 4) 去除硅层,以及用于行使氧气去除光刻胶。 等离子灰化是批示用氧气或气氛对有机原料举办可控的低温去除,其普遍使用于咨议和质料管制界限。RF等离子还可用于塑料和鸠集物的外貌改性-以及明净TEM和SEM样品以及样品支架。

  Quorum K1050X RF等离子桶式反响器安排用于等离子蚀刻,等离子灰化和等离子明净使用。

  射频等离子体可对各类样品和基板举办低温妆扮。等离子体蚀刻寻常仅限于半导体行业,由于Quorum K1050X能够用于行使反响气体(比如CF4)去除硅层,以及用于行使氧气去除光刻胶。

  等离子灰化是批示用氧气或气氛对有机原料举办可控的低温去除,其普遍使用于咨议和质料管制界限。RF等离子还可用于塑料和鸠集物的外貌改性-以及明净TEM和SEM样品以及样品支架。1974年等离子蚀刻机

  K1050X是一款摩登的固态RF等离子桶式反响器,旨正在餍足普遍众样的等离子蚀刻,等离子灰化和等离子洗涤使用的研发和小批量临盆的需求。

  K1050X RF等离子桶式反响器源委周到安排,能够承袭大方行使-每天24小时照料某些等离子灰化谋划-具有微照料器管制和自愿操作功效,并具有耐用性和操作轻省性。各向同性(各个对象)的桶式体例等离子刻蚀或等离子灰化,合用于普遍的使用。

  K1050X行使低压射频感想爆发的气体放电来以温柔,可控的方法妆扮样品外貌或去除样品原料。与替换要领比拟的一个显着上风是等离子蚀刻和灰化历程是干燥的(不须要湿化学药品),而且正在相对较低的温度下举办。

  行使众种工艺气体,能够行使众种外貌改性要领。行使氧气(或气氛)行为工艺气体,分子瓦解为化学活性原子和分子,而且所爆发的“燃烧”产品可通过真空体例简单地正在气流中带走。

  K1050X的直径为110毫米x 160毫米的硼硅酸盐玻璃室秤谌装置,带有滑出式样品抽屉和观望窗。通过可选的50 L / m呆滞挽回真空泵能够抽空腔室。反响性气体的进入由两个内置电磁流量计管制的内置流量计管制。

  留心:看待须要避免行使硼硅酸盐玻璃的等离子蚀刻使用,K1050X能够装备可选的石英腔(EK4222)。

  可供应正在13.56 MHz时高达100 W的RF功率,能够无尽地管制RF功率并将其预设为所需值。自愿调治正向和反射功率是准绳设备,并显示正在数字显示屏上。

  K1050X是全自愿的。时代,功率和真空度的管制参数易于预设,而且能够正在所有历程中举办看管和调治。

  等离子历程中,1974年等离子蚀刻机1974年等离子蚀刻机“自愿调谐”功效可确保RF功率自愿与体例或负载的任何转移举办阻抗配合。这意味着将腔室内的RFplasma要求维系正在*佳状况-这很要紧,由于它能够加快反合时间,降低结果的可反复性,并正在RF周期内包庇电源。

  K1050X仅须要增添指定的挽回泵。出于安定由来,当等离子蚀刻使用涉及行使氧气行为工艺气体时,出于安定由来,剧烈提议行使Edwards RV3 Fomblinized挽回泵(参睹EK3176)。正在须要避免行使油基挽回泵的地方,能够选取干式抽气(请参阅:订购音信)。

  看待须要更明净真空情况的等离子蚀刻和等离子明净使用,K1050XT具有内置的涡轮分子泵

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